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日本stil雙重技術(shù)光譜共焦點(diǎn)傳感器STIL-DUO

日本stil雙重技術(shù)光譜共焦點(diǎn)傳感器STIL-DUO

產(chǎn)品型號:

所屬分類:傳感器

產(chǎn)品時(shí)間:2024-09-06

簡要描述:日本stil雙重技術(shù)光譜共焦點(diǎn)傳感器STIL-DUO
*yi個(gè)提供兩種同時(shí)測量技術(shù)的系統(tǒng):光譜共焦原理 和 具備原始共焦設(shè)置的白光干涉原理。

詳細(xì)說明:

日本stil雙重技術(shù)光譜共焦點(diǎn)傳感器STIL-DUO

STIL DUO ---雙重技術(shù)“點(diǎn)”傳感器

Ø *yi個(gè)提供兩種同時(shí)測量技術(shù)的系統(tǒng):光譜共焦原理 和 具備原始共焦設(shè)置的白光干涉原理。
Ø STIL的光譜共焦原理可測量范圍從130µm到42mm。非常適用于粗糙度和表面形貌測量,在任何類型的材料上都可獲得非常高的精que度,無論是反射還是散射。測量符合新ISO25178標(biāo)準(zhǔn)。
Ø STIL的共焦光譜干涉測量法,可獲得亞納米分辨率(<1nm)的厚度和形貌測量結(jié)果,可在大于100µm的測量范圍內(nèi)進(jìn)行測量,且樣品的小可測厚度為0.4µm。
Ø 完美適用于工業(yè)環(huán)境,許多輸入和輸出以及軟件開發(fā)套件,接口非常簡單。?

  1. l 白光光譜干涉模式

- 振動(dòng)不敏感(OPILB-RP光學(xué)筆)

- 高信噪比(OPILB-RP光學(xué)筆)

- 不需垂直掃描

- 小可測厚度0.4µm

- 光學(xué)原理固有的亞納米分辨率

- 共焦使相鄰點(diǎn)之間無干擾,

- 厚度測量上具有卓yue性能(0.3nm分辨率,10nm精度

  1. l 光譜共聚焦模式

- 使用Multipeak軟件進(jìn)行多層樣品測量

日本stil雙重技術(shù)光譜共焦點(diǎn)傳感器STIL-DUO

參數(shù)

 

Ø *yi個(gè)提供兩種同時(shí)測量技術(shù)的系統(tǒng):光譜共焦原理 和 具備原始共焦設(shè)置的白光干涉原理。
Ø STIL的光譜共焦原理可測量范圍從130µm到42mm。非常適用于粗糙度和表面形貌測量,在任何類型的材料上都可獲得非常高的精que度,無論是反射還是散射。測量符合新ISO25178標(biāo)準(zhǔn)。



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