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用于電子顯微鏡觀察的鋨鍍膜裝置HPC-20介紹

發布時間:2024-04-30 點擊量:435

用于電子顯微鏡觀察的鋨鍍膜裝置HPC-20介紹

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該裝置是一種用于電子顯微鏡觀察的鋨鍍膜裝置。配備觸摸屏和定序器控制,任何人都可以輕松地全自動在樣品上進行導電膜沉積。采用空心陰極樣品臺,采用低壓放電進行鍍膜,對樣品幾乎無損傷。由于空心陰極內部產生均勻的高密度等離子體,因此無論樣品的高度或材料如何,放置在圓柱體內的樣品表面都會形成均勻厚度的Os膜。由于僅將所需量的鋨氣體注入空心陰極,因此消耗較低,并且未反應的氣體被活性炭捕集器吸附和去除,抑制了有害氣體釋放到大氣中。

目的
用于 SEM 和 TEM 的鋨鍍膜設備。由于其細小的粒徑和出色的環繞特性,它對于高倍觀察目的和復雜形狀的樣品非常有效。超薄 Os 導電涂層還使其適用于 EBSD 分析、俄歇分析和 X 射線分析。

主要產品規格

物品規格
電源AC100V(單相100V 15A)1口
,3芯帶地線插頭(3m)
設備尺寸寬470mm,深400mm,高412mm
(重量25Kg)
旋轉泵寬120mm,長290mm,高250mm
抽速30?/min 特種油用旋轉泵
(重量11Kg)
樣品室尺寸內徑120mm,高77mm(硬質玻璃材質)
電極陽極:Φ110mm
陰極:內徑Φ108mm,深度35mm
(基于我們的空心陰極法)
樣品臺尺寸Φ98mm,空心陰極內浮動安裝
可安裝樣品尺寸Φ98mm,含樣品臺高度45mm
鋨安瓿標準品厚度:Φ12.8mm以下
高度:尺寸型60mm以下、安瓿型65mm以下
OsO4 消耗量(使用次數)每1g安瓿約100次(標準使用條件下)
(使用次數根據使用頻率和成膜時間而變化)
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